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电子工业纯水制造用水厂反渗透膜技术的应用

电子工业纯水制造用水厂反渗透膜技术的应用Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
 

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水厂反渗透设备Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

一、纯水在电子元器件生产中的作用Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出,纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一,水质要求也越来越高。在电子元器件生产中,超纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
在电解电容器生产中,铝箔及工作件的清洗需用纯水,如水中含有氯离子,电容器就会漏电。在电子管生产中,电子管阴极涂敷碳酸盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求见表1。Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
表1 显像管、液晶显示器用纯水水质Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
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项目单位Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

电阻率Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

细菌Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

微粒Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

TOCKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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CuKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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MΩ.cm(25℃)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

/mlKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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黑白显像管Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

≥5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

≤5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

≤10(Φ0.5μm)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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彩色显像管Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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≤10(Φ1μm)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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液晶显示器Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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≤10Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用超纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(KNa等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(AuAgCu等)会使PN结耐压降低,族元素(BAlGa等)会使N型半导体特性恶化,族元素(PAsSb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20~50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要求见表2Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

2 集成电路(DRAM)对超纯水水质的要求Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

集成电路(DRAM)集成度Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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16MKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

相邻线距(μmKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

4Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

2.2Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

1.8Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

1.2Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

0.8Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

0.5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

微粒Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

直径(μmKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

0.4Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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个数(PCS/mlKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

100Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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细菌(CFU/100MLKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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电阻率MΩ.cm(25℃)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

16Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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17.5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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18.2Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

TOC(ppb)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

1000Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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DO(ppb)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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Na+(ppb)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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二、膜技术在纯水制造中的应用

纯水制造中应用的膜技术主要有电渗析(ED)、反渗透(RO)、纳滤(NF)、超滤(UF)、微滤(MF),其工作原理、作用等见表3Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

3 纯水制造中常用的膜技术Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

膜组件名称Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

EDKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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MFKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

微孔Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
孔径Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

 Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

5~50Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

15~85Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

50~1000埃(1μmKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

0.03~100μmKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

工作Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
原理Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

离子选择透过性Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

1.优先吸附,毛细管理论。Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
2.
氢链理论Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
3.
扩散理论Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

同左Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

滤膜筛滤作用Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

同左Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

作用Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

去除无机盐离子Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

去除无机盐离子,以及有机物、微生物、胶体、热源、病毒等Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

去除二价、三价离子,M100的有机物,以及微生物、胶体、热源、病毒等Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

去除悬浊物、胶体以及M6000的有机物Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

去除悬浊物Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

组件Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
形式Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

膜堆式Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

大多为卷式,少量为中空纤维Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

同左Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

大多为中空纤维,少量为卷式Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

摺迭滤筒式Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

工作压力(MpaKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

0.03~0.3Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

1~4Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

0.5~1.5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

0.1~0.5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

0.05~0.5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

水回收率(%Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

50~80Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

50~75Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

50~85Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

90~95Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

100Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

使用寿命(年)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

3~8Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

3~5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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3~5Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

3~6个月Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

工艺Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
位置Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

除盐工序Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

除盐工序Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

1.除盐工序Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
2.RO
前的软化Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

大多为纯水站终端精处理,少数为RO前的预处理Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

1.RONFUF前的保安过滤(3~10μm)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
2.
离子交换后滤除树脂碎片(1μm)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
3.UV
后滤除细菌死体(0.2 0.45μm)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】
4.
纯水站终端过滤(0.03~0.45μm)Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

与传统的水处理技术相比,膜技术具有工艺简单、操作方便、易于自动控制、能耗小、无污染、去除杂质效率高、运行成本低等优点,特别是几种膜技术的配合使用,再辅之以其他水处理工艺,如石英砂过滤、活性炭吸附、脱气、离子交换、UV杀菌等,为去除水中的各种杂质,满足日益发展的电子工业对超纯水的需要,提供了有效而可靠的手段,而且也只有应用了多种膜技术,才能生产出合格、稳定的超纯水,才能生产出大规模、超大规模、甚大规模集成电路(LSIVLSIULSI),从而使计算机、雷达、通讯、自动控制等现代电子工业的发展和应用得以实现。值得一提的是:当原水的含盐量大于400mg/L时,纯水制造的除盐工序采用RO-离子交换工艺后,比早先单用离子交换可节约酸、碱90%左右,使离子交换柱的周期产水量提高10倍左右,事实证明,可以降低纯水制造的运行费用和制水成本,可以减少工人的劳动强度,可以减少对环境的污染,并可使纯水水质得到提高并长期稳定。据统计,在我国电子工业引进的纯水制造系统中,有RO的约占系统总数的90%,有UF的约占20%,有MF的几乎为100%,而ED在我国国产的纯水系统特别是早期投产的纯水系统,以及为数众多的对纯水水质要求不高的一般电子元器件(如电阻、电容、黑白显像管、电子管等)制造厂的纯水系统中占有相当的比例。Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

三、微电子工厂纯水站使用膜技术实况

现以某微电子工厂中的某一纯水站使用膜技术的实况,说明膜技术在电子工业纯水制造中的应用。其纯水制造系统工艺流程为:原水 > 前级超滤 > 一级反渗透 > pH调节 > 二级反渗透 > 后级超滤Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

1、前级UFKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

前级UF是用于去除水中的悬浊物、胶体及有机物,降低水的SDI值,确保RO的安全运行。前级UF5组,每组45根组件,共225根组件,进水280m3/h,透过水250 m3/h,浓缩水排放,回收率约90%UF组件为美国Romicon公司生产,型号HF-BZ-20-PM80,组件直径5in,长43in,内压式中空纤维膜,纤维直径20mil0.51mm),共有2940根纤维,膜面积132ft2,膜材料为PS(聚砜),截留分子量8万。UF前采用5μm保安过滤器。 Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

2、一级ROKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

水中加入还原剂Na2SO3(加药量为水中余氯值的1.8倍)以防止余氯氧化腐蚀RO膜,加入防垢剂(NaPO36(加药量为5ppm)以防止CaCO3CaSO4等在RO膜上结垢,再经5μm 保安过滤器后由高压泵打进一级RO。一级RO4组,均为二段。其中三组为每组8根膜容器,呈(5+3)排列,第4组为11根膜容器,呈(8+3)排列,膜容器由FRP(玻璃钢)制成,每根内装6RO元件,总共为210RO元件,进水250m3/h,透过水188m3/h,浓缩水排放,回收率为75%,脱盐率>90%(初始脱盐率>99%),操作压力1.55MPaRO元件为美国HYDRANAUTICS(海德能)公司生产,型号CPA3。元件直径8in,长40in,卷式膜,膜面积400ft2,膜材料为芳香聚酰胺复合膜,元件脱盐率≥99.5%Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

3、二级ROKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

一级RO水箱出水中一部分进入A系统,先加NaOHCP级)调节pH8.2-8.6,使水中CO2生成HCO3-,被二级RO除去,以减轻混床离子交换的负担,采用二级RO可以使混床再生周期延长一倍,减少再生酸碱耗量,并可进一步去除TOC和胶体物质。二级RO前采用3μm保安过滤器,二级RO为一组三段,共10根膜容器,按(6+3+1)排列,每根容器内装6RO元件,共60RO元件,进水70m3/h,出水62m3/h,浓水排至超滤水箱,回收率为90%,脱盐率>70%(初始脱盐率>80%)RO元件的生产厂、型号与一级RO相同。 Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

4、后级UFKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

后级UF是用于去除水中的微粒、微生物、胶体、有机物等的终端过滤设备。Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

A系统后级UF3组,每组18支,共54支组件,进水92m3/h,出水90m3/h,浓水排至一级RO水箱,回收率约98%UF组件为美国Romicon公司生产,型号HF-132-20-PM10,组件直径5in,长43in,内压式中空纤维膜,纤维直径20mil(0.51mm),共有2940根纤维,膜面积132ft2,膜材料为PS(聚砜),截留分子量1万。Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

B系统后级UF8组,每组9支,共72支组件,进水168m3/h,出水164m3/h,回收率约98%UF组件制造厂及型号与A系统后级UF相同。Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

C系统后级UF3支组件,进水4m3/h,出水3.9m3/h,回收率约98%UF元件为美国HYDRANAUTICS公司生产,型号4040-FTV-2120,组件直径3.94in,长40in,卷式膜,膜面积55ft2,膜材料为聚烯烃,截留分子量5万。Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

5、微滤Kvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

本系统的微滤可分为三类,第一类为前级UFRO前的保安过滤器,用于去除水中的悬浊物微粒,降低水的SDI值,滤芯为PP(聚丙烯)膜摺迭式滤芯,孔径为5μm3μm。第二类在离子交换后,用于滤除离子交换树脂碎片,滤芯为PP膜摺迭式滤芯,孔径为1μm。第三类在UV杀菌器后,用于滤除微生物尸体,滤芯为N-6(尼龙6)膜摺迭式滤芯,孔径为0.45μm0.2μmKvd纯净水设备_山泉水设备_矿泉水设备—莱特莱德水厂设备【始于1998】

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